1、负责MEMS 光刻工艺及匀胶显影工艺段湿法工艺管理； 2、负责维护光刻工艺稳定、光刻机设备的稳定，制定并执行FMEA要求； 3、解决光刻工艺的CD异常处理，光刻胶的profile优化，根据异常结果调整光刻工艺参数，了解常用的光刻胶型号，根据不同产品要求选择不同型号的光刻胶； 4、负责部分新工艺的开发和导入工作。

1、微电子、材料、半导体等相关专业，本科及以上学历； 2、熟悉MEMS基本原理、微纳加工工艺（光刻、刻蚀、薄膜沉积等）； 3、了解至少一种MEMS仿真工具（CoventorWare、ANSYS、Comsol等）； 4、有半导体器件、MEMS传感器或探针卡相关项目/实习经验优先； 5、 具备良好的英文文献阅读能力和团队协作精神。